Forno di essiccazione sotto vuoto industriale ad alta precisione da laboratorio
Forno di essiccazione sotto vuoto ad alta precisione della serie XCH-ZK, con display dell'indicatore del vuoto, utilizzato per l'essiccazione e lo stoccaggio sotto vuoto sensibili alla temperatura o al gas. Il prodotto è adatto per luoghi caldi in un ambiente sottovuoto come antischiuma, disidratazione, indurimento e asciugatura dopo il trattamento di pulizia nel processo di produzione di prodotti elettronici. È particolarmente adatto per il trattamento di asciugatura rapido ed efficiente di capi asciutti sensibili al calore.
Caratteristiche principali:
• Adotta il ripiano in alluminio realizzato mediante uno speciale processo di stampaggio, presenta i vantaggi di assenza di ossidazione ad alta temperatura, rapida conduzione del calore e bassa perdita di calore.
• Il rivestimento è realizzato in lamiera di acciaio inossidabile ispessita, il guscio esterno è realizzato in lamiera di acciaio laminato a freddo di alta qualità spruzzato con plastica
• Regolatore di temperatura tramite microcomputer, il controllo della temperatura è accurato e affidabile.
• La finestra di osservazione in doppio vetro facilita l'osservazione dei campioni all'interno della scatola.
• L'anello di tenuta dello sportello in gomma siliconica dalla forma monolitica garantisce un elevato vuoto all'interno della camera.
• Controllo della temperatura: la fluttuazione costante della temperatura è ±1℃, la precisione della temperatura è 0,1℃
• Alimentazione: AC220V±10% 50HZ
Modello e parametri:
| MODELLO | RANGE DI TEMPERATURA | CAPACITÀ | DIMENSIONE INTERNA L×P×A |
DIMENSIONE ESTERNA L×P×A |
ENERGIA | VASSOI | Osservazione |
| XCH-6050ZK | RT+10 ℃ ～ 200 ℃ | 50 litri | 415×370×345(millimetro) | 710×560×550(millimetro) | 1,1 kW | 2 | Senza pompa a vuoto |
| XCH-6090ZK | RT+10℃ ～ 200℃ | 90 litri | 450×450×450(millimetro) | 610×680×1460(millimetro) | 1,7 kW | 2 | pompa per vuoto Due strati, controllo TEMP indipendente |
| XCH-6210ZK | RT+ 10 ℃ ～ 200 ℃ | 210 litri | 560×600×640(millimetro) | 720×820×1750 (millimetro) | 2,0 kW | 3 | pompa per vuoto Tre strati, controllo TEMP indipendente |
| XCH-6500ZK | RT+ 10 ℃ ～ 200 ℃ | 420 litri | 630×810×840 (millimetro) | 790×1030×1860(millimetro) | 3,6KW | 4 | pompa per vuoto Quattro strati, controllo TEMP indipendente |
Applicazione:
Il forno sottovuoto ad alta precisione della serie XCH-ZK è adatto per il trattamento termico di prodotti elettronici sotto vuoto, come antischiuma, disidratazione, indurimento e asciugatura dopo un trattamento pulito, è particolarmente adatto per l'asciugatura rapida ed efficiente di articoli sensibili al calore. Ampiamente usato in prodotti elettronici e biochimica, chimica farmaceutica, medicina, agricoltura, protezione ambientale e altri campi di ricerca e applicazione.
Includono principalmente i dipartimenti come segue:
Industria farmaceutica
Biochimica
Scienze agrarie
Altri dipartimenti di ricerca scientifica e produzione industriale
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